江苏科技信息 ›› 2015, Vol. 32 ›› Issue (21): 50-53.doi: 10.3969/j.issn.1004-7530.2015.21.017
设备综合效率在真空刻蚀机上的应用
古枫, 黎明柱
- 上海交通大学,上海,200240
The Application of OEE in Vacuum Dry Etch Machine
Gu Feng, Li Mingzhu
摘要： 真空刻蚀机为一种昂贵的晶圆加工设备，在半导体领域有着广泛的应用，其设备主要用来加工晶圆上面的图形，从而制造电子元器件，因此，这种设备的价格也是非常昂贵的。文章首先通过介绍真空刻蚀机的基本构造以及工作原理，了解设备的运行及加工操作特点，然后通过对公司关键设备真空刻蚀机进行设备综合效率（OEE）工具的使用，有效地分析真空刻蚀机生产效率低下的原因，从而有针对性地进行改善与改造，加上执行TPM（Total Preventive Maintenance）来提升其设备综合效率，以达到生产线整体的生产效率提升的目的。